Poleret monokrystallinsk silicium wafer
vi kan tilpasse materialet, specifikationerne og den optiske belægning til dine optiske komponenter baseret på dine behov.
Beskrivelse
Beskrivelse
Monokrystallinske siliciumwafers bruges til fremstilling af mikroprocessorer, hukommelseschips, sensorer, solceller og andre elektroniske enheder. De er afgørende for udviklingen af avancerede elektroniske enheder og tilbyder overlegen ydeevne sammenlignet med andre typer wafere.
Beskrivelse
|
Diameter |
0.2-300mm |
|
Tykkelse |
0.1-100mm |
|
Dimensionstolerance |
plus /-0.1mm eller plus /-0.02mm |
|
Overfladekvalitet (ridse og grave) |
60/40, 40/20 eller bedre |
|
Klar blænde |
>85%, >90 procent |
|
Overfladenøjagtighed |
L/10 L/2 L |
|
Parallelisme |
plus /-3' , plus /-30'' |
|
Fasning |
{{0}}.1~0,3 mm x 45 grader |
|
Belægning |
AR, BBAR eller Custom |


Funktioner
Monokrystallinsk siliciumwafer er et siliciumsubstratmateriale med høj renhed, komplet krystalstruktur og glat overflade, som har følgende egenskaber:
Høj renhed: Renheden af monokrystallinske siliciumwafers er meget høj og når normalt mere end 99,9999 procent, og det er et ekstremt rent halvledermateriale.
Komplet krystalstruktur: Monokrystallinske siliciumwafers er siliciumkrystaller dyrket i en højtemperaturovn. Krystalstrukturen er meget komplet og har fremragende elektriske og optiske egenskaber.
Glat overflade: Overfladen af monokrystallinske siliciumskiver er blevet poleret mange gange, og overfladen er meget glat og flad, hvilket kan opfylde kravene til højpræcisionsfremstilling.
Stærk kontrollerbarhed: Krystalvækstretningen og gitterstrukturen kan kontrolleres under vækstprocessen af enkeltkrystal siliciumwafers for at opnå siliciumwafers af specifik form og størrelse.
Populære tags: poleret monokrystallinsk silicium wafer
Send forespørgsel
Du kan også lide
