Højtemperatur siliciumpulver til belægninger

Højtemperatur siliciumpulver kan bruges som fyldmateriale i belægninger designet til højtemperaturapplikationer. Denne type pulver er typisk lavet af ultrarent silicium og er konstrueret til at modstå ekstreme temperaturer uden at forringe eller miste dets kemiske egenskaber.

Når det anvendes i højtemperaturbelægninger, kan siliciumpulver bidrage til at forbedre belægningens termiske stabilitet og modstandsdygtighed over for oxidation. Det kan også forbedre belægningens mekaniske styrke og slidstyrke, hvilket gør den ideel til brug i barske industrielle miljøer.

Siliciumpulver kan tilsættes til en række forskellige belægningsmaterialer, herunder keramiske belægninger, epoxybelægninger og polyurethanbelægninger. Disse belægninger kan bruges i en række applikationer, såsom turbinevinger, udstødningssystemer og industrielle ovne.

Kemisk formel: Si

Molekylvægt: 28,09 g/mol

Renhed: 99,9 procent eller højere

Udseende: Grå-sort pudder

Partikelstørrelse: 1-10 mikron eller tilpasset

Overfladeareal: 10-50 m2/g

Massefylde: 2,33 g/cm3

Smeltepunkt: 1.414 grader

Kogepunkt: 3.265 grader

Termisk ledningsevne: 149 W/mK

Elektrisk ledningsevne: 10^-4 S/cm

-200 mesh: Den gennemsnitlige partikelstørrelse er omkring 5-10 mikron, og sigtehastigheden på 200 mesh er over 98 procent. Det bruges i kosmetik, belægninger og andre industrier.

-325 mesh: Den gennemsnitlige partikelstørrelse er ca. 1-5 mikron, og beståelseshastigheden for 325 mesh-screening er over 98 procent. Det bruges i plast, gummi og andre industrier.

{{0}} mesh: den gennemsnitlige partikelstørrelse er omkring 0,5-1 mikron, og sigtningshastigheden på 800 mesh er over 98 procent. Det bruges i halvleder, højtemperaturbelægning og andre industrier.

{{0}} mesh: den gennemsnitlige partikelstørrelse er ca. 0.1-0,5 mikron, og sigtegennemløbshastigheden på 1000 mesh er over 98 procent. Det bruges i high-end keramik, belægninger og andre industrier.

{{0}} mesh: den gennemsnitlige partikelstørrelse er omkring 0.05-0.1 mikron, og sigtegennemløbshastigheden på 3000 mesh er over 98 procent. Det bruges i elektroniske materialer, nanomaterialer og andre industrier.